초록 ▼

본 발명은 가스 저장 또는 운송을 위한 용기, 배관, 또는 장비, 실링 부품 등에 사용되는 소재의 가스 투과도를 측정함에 있어서 주변 온도 등과 같은 변수의 영향 없이 투과도를 신뢰성 있게 측정하기 위한 표준 물질로 사용할 수 있는 재료에 관한 것이다.본 발명에 따른 표준용 재료는 다공성 모재에 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition, ALD)를 이용하여 유전체층을 쌓아 기공 직경을 좁혀서 제조한 재료로서, 상기 재료는 특수 장비 없이 간단하게 제작이 가능하여 제작시 사용되는 고가의 장비나 추가 준비물이 필요 없으

본 발명은 가스 저장 또는 운송을 위한 용기, 배관, 또는 장비, 실링 부품 등에 사용되는 소재의 가스 투과도를 측정함에 있어서 주변 온도 등과 같은 변수의 영향 없이 투과도를 신뢰성 있게 측정하기 위한 표준 물질로 사용할 수 있는 재료에 관한 것이다.본 발명에 따른 표준용 재료는 다공성 모재에 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition, ALD)를 이용하여 유전체층을 쌓아 기공 직경을 좁혀서 제조한 재료로서, 상기 재료는 특수 장비 없이 간단하게 제작이 가능하여 제작시 사용되는 고가의 장비나 추가 준비물이 필요 없으며, 또한, 박막의 두께 조절이 정밀하여 컨덕턴스의 정밀한 조절이 가능한 장점을 가지고 있다.

대표청구항

내부를 관통하는 복수의 기공을 포함하는 다공질 모재 및 상기 다공질 모재에 적어도 1회 이상의 원자층 증착법(ALD)으로 상기 다공질 모재의 기공 내의 측벽에 증착된 유전체 층과 상기 다공질 모재의 내부를 관통하는 기공이 없는 표면에 증착된 유전체 층을 포함하고,원자층 증착법의 증착 횟수에 의해 상기 다공질 모재의 기공의 지름을 조절함으로써, 목적하는 컨덕턴스(conductance)가 획득될 수 있는,가스의 투과도 측정을 위한 표준 물질용 재료.

내부를 관통하는 복수의 기공을 포함하는 다공질 모재 및 상기 다공질 모재에 적어도 1회 이상의 원자층 증착법(ALD)으로 상기 다공질 모재의 기공 내의 측벽에 증착된 유전체 층과 상기 다공질 모재의 내부를 관통하는 기공이 없는 표면에 증착된 유전체 층을 포함하고,원자층 증착법의 증착 횟수에 의해 상기 다공질 모재의 기공의 지름을 조절함으로써, 목적하는 컨덕턴스(conductance)가 획득될 수 있는,가스의 투과도 측정을 위한 표준 물질용 재료.