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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0148590 (2021-11-02) | |
공개번호 | 10-2023-0063474 (2023-05-09) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210148590 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-11-02) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 반도체 소자의 제조공정으로부터 발생할 수 있는 부산물인 폐실리콘, 예컨대 실리콘 폐슬러지 및 실리콘 스크랩을 활용하여 실리콘 나노분말을 제조하는 방법 및 상기 방법을 통해 제조된 실리콘 나노분말을 이차전지용 음극재로 활용하는 방법에 관한 것으로, (S1) 반도체 소자 제조공정에서 발생하는 실리콘 폐슬러지 및 실리콘 스크랩을 회수하는 단계; (S2) 회수한 상기 실리콘 폐슬러지 및 실리콘 스크랩에서 실리콘 절삭분(Si)를 분리 회수하는 단계; (S3) 분리 회수한 상기 실리콘 절삭분을 세척 및 포밍하는 단계; (S4) 상기
(S1) 반도체 소자 제조공정에서 발생하는 폐실리콘 부산물을 회수하는 단계; (S2) 회수한 상기 실리콘 폐실리콘 부산물에서 실리콘 절삭분(Si)를 분리 회수하는 단계; (S3) 분리 회수한 상기 실리콘 절삭분을 세척 및 포밍하는 단계;(S4) 상기 (S3)의 실리콘을 이송식 아크 플라즈마 장치에 투입하고 플라즈마를 발생시켜 진공 나노분말을 제조하는 단계;를 포함하는, 폐실리콘 부산물로부터 실리콘 나노분말을 제조하는 방법.
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