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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0160239 (2021-11-19) | |
등록번호 | 10-2440076-0000 (2022-08-31) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210160239 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-11-19) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 피도체의 소재 및 형상에 대한 제한이 없고, 피도체와의 우수한 밀착력을 갖는 내후성이 우수한 은경막을 단순한 공정에 의해 형성할 수 있는 은경막 형성 방법에 관한 것으로, 상세하게 은경막 형성 방법은 a) 기재 상에 카르복실산기 또는 히드록시기를 갖는 수지 및 폴리이소시아네이트 화합물에 의해 제조되는 폴리우레탄(PU) 경화막인 하도막을 형성하는 단계; b) 상기 하도막 상에 루이스산으로 제1염화주석(SnCl2) 및 제2염화주석(SnCl4)이 혼합된 혼합물을 이용하여 전처리막을 형성하는 단계; c) 상기 전처리막 상에 은
a) 기재 상에 카르복실산기 또는 히드록시기를 갖는 수지 및 폴리이소시아네이트 화합물에 의해 제조되는 폴리우레탄(PU) 경화막인 하도막을 형성하는 단계;b) 상기 하도막 상에 루이스산으로 제1염화주석(SnCl2) 및 제2염화주석(SnCl4)이 혼합된 혼합물, 산, 계면활성제 및 도데실벤젠술폰산을 포함하는 전처리 코팅 조성물을 이용하여 전처리막을 형성하는 단계;c) 상기 전처리막 상에 은 전구체를 포함하는 주액 및 환원제를 포함하는 부액을 동시에 분사하여 유도된 은거울반응에 의해 은도금막을 형성하는 단계; 및d) 상기 은도금막 상에
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