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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-0167961 (2021-11-30) | |
공개번호 | 10-2023-0080617 (2023-06-07) | |
등록번호 | 10-2644165-0000 (2024-02-29) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210167961 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2021-11-30) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 공개 |
본 발명의 일 실시예에 따르면, 세라믹 조성물을 도포하는 제1 단계; 도포된 상기 세라믹 조성물의 적어도 일부 영역에 반응액을 분사하는 제2 단계; 도포된 상기 세라믹 조성물에 에너지를 조사하여 상기 반응액이 분사된 영역을 화학 반응을 통해 경화시켜 세라믹 레이어를 형성하는 제3 단계를 포함하고, 상기 세라믹 레이어 상에 상기 제1 단계 내지 상기 제3 단계를 적어도 1 사이클 이상 반복하고, 화학 반응을 통해 경화된 영역을 제외한 나머지 영역을 제거하여 3차원 구조체를 형성하는, 3차원 인쇄 방법이 제공된다.
세라믹 조성물을 도포하는 제1 단계;도포된 상기 세라믹 조성물의 적어도 일부 영역에 반응액을 분사하는 제2 단계;도포된 상기 세라믹 조성물에 에너지를 조사하여 상기 반응액이 분사된 영역을 화학 반응을 통해 경화시켜 세라믹 레이어를 형성하는 제3 단계를 포함하고,상기 세라믹 레이어 상에 상기 제1 단계 내지 상기 제3 단계를 적어도 1 사이클 이상 반복하고, 화학 반응을 통해 경화된 영역을 제외한 나머지 영역을 제거하여 3차원 구조체를 형성하고,상기 제1 단계와 상기 제2 단계 사이에 도포된 세라믹 조성물을 건조하는 단계를 더 포함하
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