최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2021-0178920 (2021-12-14) | |
공개번호 | 10-2023-0090032 (2023-06-21) | |
등록번호 | 10-2625850-0000 (2024-01-11) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020210178920 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2021-12-14) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
이리듐 클로라이드를 준비하는 단계, 이리듐 클로라이드와 용매 및 기공제어제를 혼합하여 분산액을 제조하는 단계, 분산액에 이온교환제를 혼합하고 이온 교환시키는 단계, 분산액에서 용매를 제거하여 분말을 제조하는 단계, 그리고 분말을 열처리하는 단계를 포함하는, 이리듐 산화물의 제조 방법을 제공한다.
이리듐 클로라이드를 준비하는 단계,상기 이리듐 클로라이드와, 용매 및 기공제어제를 혼합하여 분산액을 제조하는 단계,상기 분산액에 이온교환제를 혼합하고 이온 교환시키는 단계,상기 분산액에서 용매를 제거하여 분말을 제조하는 단계, 그리고상기 분말을 열처리하여 이리듐 산화물을 제조하는 단계를 포함하며,상기 제조된 이리듐 산화물은, 평균 기공 크기가 2 nm 내지 5 nm이고,평균 기공 부피가 0.21 cm3/g 내지 0.25 cm3/g이고, 비표면적이 100 m2/g 내지 420 m2/g인, 이리듐 산화물의 제조 방법.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.