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연합인증

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고수율 및 고순도로 황화리튬 결정체를 제조하는 방법 및 이 방법으로 제조한 황화리튬 결정체 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01B-017/22
  • C01B-017/36
  • C01B-017/38
  • H01M-010/0562
출원번호 10-2021-0181525 (2021-12-17)
공개번호 10-2023-0092272 (2023-06-26)
DOI http://doi.org/10.8080/1020210181525
발명자 / 주소
  • 이상율 / 충청북도 충주시 주덕읍 중원산업로 ***
  • 김경철 / 충청북도 충주시 주덕읍 중원산업로 ***
  • 김하영 / 충청북도 충주시 주덕읍 중원산업로 ***
출원인 / 주소
  • 주식회사 이수스페셜티케미컬 / 서울특별시 서초구 사평대로 ** (반포동)
대리인 / 주소
  • 유미특허법인
법적상태 공개

초록

본 발명은 황화리튬 결정체를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 높은 순도의 황화리튬 결정체를 높은 수율로 상업적으로 제조할 수 있는 방법에 관한 것이다.

대표청구항

반응기 내부를 질소 가스로 충전하는 1단계; 질소 가스가 충전된 반응기에 노말 헥산을 주입한 후, (C2 ~ C6의 직쇄형 알킬)리튬 용액을 투입 및 교반하는 2단계;2단계를 수행한 반응기 내부에 황화수소 용액을 적가한 후, 10 ~ 18시간 동안 교반 및 반응을 수행하는 3단계;반응 종결 후, 반응생성물을 포함하는 현탁액을 감압 여과하여 고체를 수득하는 4단계;수득된 고체를 노말 헥산으로 세척 및 건조하는 5단계;를 포함하는 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 고수율 및 고순도로 황화리튬 결정체를 제조하는 방법.

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