본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 리튬 복합전이금속 산화물을 포함하고, 하기 식 (1)을 만족하며, 2차 입자의 평균 입경 D50이 1㎛ 내지 8㎛인 양극 활물질과, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 양극재에 관한 것이다.[화학식 1]LiaNixCoyM1zM2wO2상기 화학식 1에서, M1은 Mn 및 Al으로부터 선택되는 1종 이상이고, M2는 Zr, B, W, Mg, Ce, Hf, Ta, La, Ti, Sr, Ba, F, P 및 S로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이며, 0.9≤a≤1.1, 0.7≤x<1. 0<
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 리튬 복합전이금속 산화물을 포함하고, 하기 식 (1)을 만족하며, 2차 입자의 평균 입경 D50이 1㎛ 내지 8㎛인 양극 활물질과, 그 제조 방법 및 이를 포함하는 양극재에 관한 것이다.[화학식 1]LiaNixCoyM1zM2wO2상기 화학식 1에서, M1은 Mn 및 Al으로부터 선택되는 1종 이상이고, M2는 Zr, B, W, Mg, Ce, Hf, Ta, La, Ti, Sr, Ba, F, P 및 S로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이며, 0.9≤a≤1.1, 0.7≤x<1. 0<y≤0.2, 0<z≤0.2, 0≤w≤0.1이다.식 (1):4 ≤1차 입자 개수/2차 입자의 평균 입경 D50≤ 21상기 식 (1)에서, 상기 1차 입자 개수는 양극 활물질의 단면 SEM 이미지에서 측정되는 1차 입자의 개수이며, 상기 2차 입자의 평균 입경 D50은 레이저 회절 입도 측정 장치를 통해 측정한 양극 활물질의 면적 누적 입도 분포의 최대 피크가 나타나는 입경이다.
대표청구항▼
하기 화학식 1로 표시되는 리튬 복합전이금속 산화물을 포함하고,하기 식 (1)을 만족하며,2차 입자의 평균 입경 D50이 1㎛ 내지 8㎛인 양극 활물질:[화학식 1]LiaNixCoyM1zM2wO2상기 화학식 1에서, M1은 Mn 및 Al으로부터 선택되는 1종 이상이고, M2는 Zr, B, W, Mg, Ce, Hf, Ta, La, Ti, Sr, Ba, F, P 및 S로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이며,0.9≤a≤1.1, 0.7≤x<1. 0<y≤0.2, 0<z≤0.2, 0≤w≤0.1이고,식 (1):4 ≤1차
하기 화학식 1로 표시되는 리튬 복합전이금속 산화물을 포함하고,하기 식 (1)을 만족하며,2차 입자의 평균 입경 D50이 1㎛ 내지 8㎛인 양극 활물질:[화학식 1]LiaNixCoyM1zM2wO2상기 화학식 1에서, M1은 Mn 및 Al으로부터 선택되는 1종 이상이고, M2는 Zr, B, W, Mg, Ce, Hf, Ta, La, Ti, Sr, Ba, F, P 및 S로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상이며,0.9≤a≤1.1, 0.7≤x<1. 0<y≤0.2, 0<z≤0.2, 0≤w≤0.1이고,식 (1):4 ≤1차 입자 개수/2차 입자의 평균 입경 D50 ≤ 21상기 식 (1)에서, 상기 1차 입자 개수는 양극 활물질의 단면 SEM 이미지에서 측정되는 1차 입자의 개수이며, 상기 2차 입자의 평균 입경 D50은 레이저 회절 입도 측정 장치를 통해 측정한 양극 활물질의 면적 누적 입도 분포의 최대 피크가 나타나는 입경이다.
발명자의 다른 특허 :
연구과제 타임라인
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이 특허에 인용된 특허 (3)
[한국]
리튬이차전지용 니켈계 활물질, 그 제조방법 및 이를 포함하는 양극을 포함한 리튬이차전지 |
김종민,
김지윤,
윤필상,
장동규,
조광환,
현장석,
김진화
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