초록 ▼

본 발명은, 이형층의 건조 시의 응집에 의한 표면 거칠기의 악화를 억제하여 높은 평활성을 갖고, 또한 이형층 표면의 실리콘계 성분의 양을 조정함으로써, 박리성이 뛰어난 세라믹 그린시트 제조용 이형 필름을 제공하는 것이다.본 발명은 폴리에스테르 필름을 기재(基材)로 하고, 상기 기재가 적어도 편면(片面)에 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 표면층 A를 가지며, 적어도 편면의 표면층 A의 표면 상에 직접 또는 다른 층을 개재하여 이형층이 적층되어 있는 이형 필름으로서, 이형층은 바인더 성분과 실리콘계 이형제를 함유하는 조성물이 경화

본 발명은, 이형층의 건조 시의 응집에 의한 표면 거칠기의 악화를 억제하여 높은 평활성을 갖고, 또한 이형층 표면의 실리콘계 성분의 양을 조정함으로써, 박리성이 뛰어난 세라믹 그린시트 제조용 이형 필름을 제공하는 것이다.본 발명은 폴리에스테르 필름을 기재(基材)로 하고, 상기 기재가 적어도 편면(片面)에 입자를 실질적으로 함유하고 있지 않은 표면층 A를 가지며, 적어도 편면의 표면층 A의 표면 상에 직접 또는 다른 층을 개재하여 이형층이 적층되어 있는 이형 필름으로서, 이형층은 바인더 성분과 실리콘계 이형제를 함유하는 조성물이 경화되어 이루어지고, 이형층 표면의 Si 원소 비율이 2.0at％ 이상 10.0at％ 이하이며, 이형층 표면의 최대 돌기 높이(P)가 50nm 이하 또한 영역 평균 거칠기(Sa)가 1.5nm 이하인 세라믹 그린시트 제조용 이형 필름이다.

대표청구항 ▼

폴리에스테르 필름을 기재(基材)로 하고, 상기 기재의 표면 상에 직접 이형층이 적층되어 있는 이형 필름으로서, 이형층은 바인더 성분과 실리콘계 이형제를 함유하는 조성물이 경화되어 이루어지되,상기 조성물을 상기 기재의 표면 상에 도포한 후, 초기 건조 공정 및 가열 경화 공정을 거쳐 형성되는 것이며, 여기서 상기 조성물의 도포 후 건조로에 넣을 때까지의 시간이 1.5초 이내이고,이형층 표면의 Si 원소 비율이 2.0at％ 이상 10.0at％ 이하이며, 이형층 표면의 최대 돌기 높이(P)가 50nm 이하 또한 영역 평균 거칠기(Sa)가

폴리에스테르 필름을 기재(基材)로 하고, 상기 기재의 표면 상에 직접 이형층이 적층되어 있는 이형 필름으로서, 이형층은 바인더 성분과 실리콘계 이형제를 함유하는 조성물이 경화되어 이루어지되,상기 조성물을 상기 기재의 표면 상에 도포한 후, 초기 건조 공정 및 가열 경화 공정을 거쳐 형성되는 것이며, 여기서 상기 조성물의 도포 후 건조로에 넣을 때까지의 시간이 1.5초 이내이고,이형층 표면의 Si 원소 비율이 2.0at％ 이상 10.0at％ 이하이며, 이형층 표면의 최대 돌기 높이(P)가 50nm 이하 또한 영역 평균 거칠기(Sa)가 1.5nm 이하인 세라믹 그린시트 제조용 이형 필름.