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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2021-7025148 (2021-08-09) | |
공개번호 | 10-2021-0102480 (2021-08-19) | |
등록번호 | 10-2531320-0000 (2023-05-08) | |
우선권정보 | 미국(US) 16/052,166 (2018-08-01) | |
국제출원번호 | PCT/IB2019/056575 (2019-08-01) | |
국제공개번호 | WO 2020/026192 (2020-02-06) | |
번역문제출일자 | 2021-08-09 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020217025148 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2022-07-08) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명의 소정의 예시적인 실시 형태는 은-포함 (저방사율) 로이(low-E) 코팅의 초고속 레이저 처리, 그러한 코팅을 포함하는 코팅된 물품, 및/또는 관련 방법에 관한 것이다.상기 로이 코팅은 기판(예컨대, 붕규산염 유리 또는 소다석회 실리카 유리) 상에 형성되며, 이때 상기 로이 코팅은 적어도 하나의 스퍼터링-침착된 은-기반 층을 포함하며, 각각의 상기 은-기반 층은 하나 이상의 유전체 층들 사이에 개재된다.상기 로이 코팅은 10-12초 이하의 지속시간, 355 내지 500 nm의 파장, 및 30 kW/㎠ 초과의 에너지 밀도를
코팅된 물품의 제조 방법으로서,저-방사율(로이(low-E)) 코팅을 기판 상에 갖는 단계 - 상기 로이 코팅은 적어도 하나의 스퍼터링-침착된 은-기반 층 및 다수의 유전체 층을 포함함 -; 및상기 로이 코팅을, 10-12초 이하의 지속시간을 갖고, 355 내지 500 nm로부터 적어도 하나의 파장, 및 30 kW/㎠ 초과의 에너지 밀도를 포함하는 레이저 펄스에 노출시키는 단계 - 상기 노출은 상기 로이 코팅의 온도가 300℃를 초과하여 증가되는 것을 피하면서 또한, (a) 상기 은-기반 층에 대한 다수의 결정립 경계, (b) 상기
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