초록 ▼

본 발명의 소정의 예시적인 실시 형태는 은-포함 (저방사율) 로이(low-E) 코팅의 초고속 레이저 처리, 그러한 코팅을 포함하는 코팅된 물품, 및/또는 관련 방법에 관한 것이다.상기 로이 코팅은 기판(예컨대, 붕규산염 유리 또는 소다석회 실리카 유리) 상에 형성되며, 이때 상기 로이 코팅은 적어도 하나의 스퍼터링-침착된 은-기반 층을 포함하며, 각각의 상기 은-기반 층은 하나 이상의 유전체 층들 사이에 개재된다.상기 로이 코팅은 10-12초 이하의 지속시간, 355 내지 500 nm의 파장, 및 30 kW/㎠ 초과의 에너지 밀도를

본 발명의 소정의 예시적인 실시 형태는 은-포함 (저방사율) 로이(low-E) 코팅의 초고속 레이저 처리, 그러한 코팅을 포함하는 코팅된 물품, 및/또는 관련 방법에 관한 것이다.상기 로이 코팅은 기판(예컨대, 붕규산염 유리 또는 소다석회 실리카 유리) 상에 형성되며, 이때 상기 로이 코팅은 적어도 하나의 스퍼터링-침착된 은-기반 층을 포함하며, 각각의 상기 은-기반 층은 하나 이상의 유전체 층들 사이에 개재된다.상기 로이 코팅은 10-12초 이하의 지속시간, 355 내지 500 nm의 파장, 및 30 kW/㎠ 초과의 에너지 밀도를 갖는 레이저 펄스에 노출된다.상기 노출은 상기 로이 코팅의 온도가 300℃를 초과하여 증가되는 것을 피하면서 또한, (a) 각각의 상기 은-기반 층에 대한 결정립 경계, 및 각각의 상기 은-기반 층 내의 공공(vacancy)을 감소시키고, (b) 각각의 상기 은-기반 층의 굴절률을 감소시키고, (c) 상기 로이 코팅의 침착된 그대로의 형태와 대비하여 상기 로이 코팅의 방사율을 감소시키도록 수행된다.

대표청구항 ▼

코팅된 물품의 제조 방법으로서,저-방사율(로이(low-E)) 코팅을 기판 상에 갖는 단계 - 상기 로이 코팅은 적어도 하나의 스퍼터링-침착된 은-기반 층 및 다수의 유전체 층을 포함함 -; 및상기 로이 코팅을, 10-12초 이하의 지속시간을 갖고, 355 내지 500 nm로부터 적어도 하나의 파장, 및 30 kW/㎠ 초과의 에너지 밀도를 포함하는 레이저 펄스에 노출시키는 단계 - 상기 노출은 상기 로이 코팅의 온도가 300℃를 초과하여 증가되는 것을 피하면서 또한, (a) 상기 은-기반 층에 대한 다수의 결정립 경계, (b) 상기

코팅된 물품의 제조 방법으로서,저-방사율(로이(low-E)) 코팅을 기판 상에 갖는 단계 - 상기 로이 코팅은 적어도 하나의 스퍼터링-침착된 은-기반 층 및 다수의 유전체 층을 포함함 -; 및상기 로이 코팅을, 10-12초 이하의 지속시간을 갖고, 355 내지 500 nm로부터 적어도 하나의 파장, 및 30 kW/㎠ 초과의 에너지 밀도를 포함하는 레이저 펄스에 노출시키는 단계 - 상기 노출은 상기 로이 코팅의 온도가 300℃를 초과하여 증가되는 것을 피하면서 또한, (a) 상기 은-기반 층에 대한 다수의 결정립 경계, (b) 상기 은-기반 층 내의 다수의 공공(vacancies), (c) 상기 은-기반 층의 굴절률, 및 (d) 상기 로이 코팅의 침착된 그대로의 형태와 대비한 상기 로이 코팅의 방사율을 감소시키도록 수행됨 - 를 포함하는, 방법.