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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0019032 (2022-02-14) | |
공개번호 | 10-2023-0122404 (2023-08-22) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220019032 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 (A) 연속 교반 탱크 반응기(CSTR) 내에 전이금속 함유 용액, 암모늄 양이온 착물 형성제 및 염기성 수용액을 연속적으로 투입하여 침전 반응을 통해 양극 활물질 전구체 입자의 핵을 생성하고 성장시키는 단계; 및 (B) 상기 반응기가 만액이 되면, 오버 플로우관을 열어 상기 (A) 단계에서 제조된 양극 활물질 전구체를 수득하고, 동시에 상기 반응기 내에 질소 기체를 1분당 상기 반응기 총 부피에 대하여 20부피% 내지 50부피%의 유량으로 흘려주면서 전이금속 함유 용액, 암모늄 양이온 착물 형성제 및 염기성 수용액을 연
(A) 연속 교반 탱크 반응기(CSTR) 내에 전이금속 함유 용액, 암모늄 양이온 착물 형성제 및 염기성 수용액을 연속적으로 투입하여 침전 반응을 통해 양극 활물질 전구체 입자의 핵을 생성하고 성장시키는 단계; 및(B) 상기 반응기가 만액이 되면, 오버 플로우관을 열어 상기 (A) 단계에서 제조된 양극 활물질 전구체를 수득하고, 동시에 상기 반응기 내에 질소 기체를 1분당 상기 반응기 총 부피에 대하여 20부피% 내지 50부피%의 유량으로 흘려주면서 전이금속 함유 용액, 암모늄 양이온 착물 형성제 및 염기성 수용액을 연속적으로 투입
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