최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2022-0043476 (2022-04-07) | |
공개번호 | 10-2023-0144341 (2023-10-16) | |
등록번호 | 10-2590777-0000 (2023-10-13) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220043476 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2022-04-07) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 테레프탈로일클로라이드 제조방법에 관한 것으로써, 구체적으로 헥사클로로파라자일렌을 전환율에 따라 복수의 온도 구간에서 반응시켜 제조하고, 상기 제조된 헥사클로로파라자일렌과 프탈산과 반응시켜 테레프탈로일클로라이드를 제조하는, 테레프탈로일클로라이드의 제조방법에 관한 것이다.
파라자이렌과 염소가스를 광 반응시켜 헥사클로로파라자일렌을 제조하는 방법으로서, 상기 반응은 병렬로 연결된 복수의 반응기에서 수행되며, 각 반응기에서의 광 반응은 헥사클로로파라자일렌의 전환율에 따라 생성되는 중간 생성물의 융점의 증가에 따라 4단계 이상의 복수의 온도 구간에서 반응되는 것이며,상기 복수의 반응기 중 하나의 반응기에서 방출되는 미반응 염소가스를 다른 반응기로 순환시켜 반응에 참여하게 하는 것인, 파라자일렌 제조방법.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.