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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0083190 (2022-07-06) | |
공개번호 | 10-2023-0009315 (2023-01-17) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020210089900 (2021-07-08) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220083190 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2022-07-06) | |
법적상태 | 공개 |
본 발명은 나노니들 어레이 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 나노니들 어레이 제조방법은 피가공 소재를 가공하여 다수의 나노니들이 배열된 나노니들 어레이를 제조하는 나노니들 어레이 제조방법에 있어서, 피가공 소재의 일면 상에, 마이크로 입자를 도포하여 마스크층을 형성하는 단계(S100), 마스크층이 형성된 피가공 소재의 일면에서부터 소정의 깊이까지 건식식각하여, 소정의 높이를 가지는 나노니들을 1차 성형하는 단계(S200), 성형된 나노니들 상의 마이크로 입자를 선택적으로 건식식각하여, 마이크로 입자를 안정화하는 단계(S300
피가공 소재를 가공하여 다수의 나노니들이 배열된 나노니들 어레이를 제조하는 나노니들 어레이 제조방법에 있어서,(a) 상기 피가공 소재의 일면 상에, 마이크로 입자를 도포하여 마스크층을 형성하는 단계;(b) 상기 마스크층이 형성된 상기 피가공 소재의 일면에서부터 소정의 깊이까지 건식식각하여, 소정의 높이를 가지는 상기 나노니들을 1차 성형하는 단계; (c) 성형된 상기 나노니들 상의 상기 마이크로 입자를 선택적으로 건식식각하여, 상기 마이크로 입자를 안정화하는 단계; 및(d) 성형된 상기 나노니들을 건식식각하여, 상기 나노니들을 2차
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