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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0166725 (2022-12-02) |
공개번호 | 10-2023-0084077 (2023-06-12) |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020210171783 (2021-12-03) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220166725 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 수세 공정에서 발생되는 양극 활물질의 표면 열화를 최소화할 수 있고, 잔류 리튬을 효과적으로 제어할 수 있으며, 양극 활물질 표면에 균일한 코팅층을 형성할 수 있는 양극 활물질 제조 방법 및 이에 의해 제조된 양극 활물질에 대한 발명으로, (A) 리튬 전이금속 산화물을 준비하는 단계; (B) 상기 리튬 전이금속 산화물과 제1 수세 용액을 혼합하여 상기 리튬 전이금속 산화물을 제1 수세한 후, 제1 여과하는 단계; (C) (B) 단계를 거친 상기 리튬 전이금속 산화물을 수세 및 여과가 동시에 가능한 여과 장치를 이용하여 제
(A) 리튬 전이금속 산화물을 준비하는 단계;(B) 상기 리튬 전이금속 산화물과 제1 수세 용액을 혼합하여 상기 리튬 전이금속 산화물을 제1 수세한 후, 제1 여과하는 단계;(C) (B) 단계를 거친 상기 리튬 전이금속 산화물을 수세 및 여과가 동시에 가능한 여과 장치를 이용하여 제2 수세 용액으로 제2 수세 및 제2 여과를 동시에 수행하는 단계; 및(D) (C) 단계를 거친 상기 리튬 전이금속 산화물을 건조한 후, 건조된 리튬 전이금속 산화물에 코팅 원소 함유 원료 물질을 혼합하고 열처리하여 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하고,상
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