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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-0181351 (2022-12-22) | |
공개번호 | 10-2023-0106504 (2023-07-13) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020220002342 (2022-01-06) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020220181351 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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법적상태 | 공개 |
본 발명은 분리막 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전지의 안정성을 확보할 수 있으며, 고온에서도 현저히 낮은 열수축성과 저항 증가가 최소화되는 특성을 가지는 분리막 및 이의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 분리막은 다공성 기재; 및 상기 다공성 기재의 일면 또는 양면 상에 위치하는 무기입자층;을 포함하며, 상기 무기입자층은 무기입자 및 판상형 무기바인더를 포함한다.
다공성 기재; 및상기 다공성 기재의 일면 또는 양면 상에 위치하는 무기입자층;을 포함하며,상기 무기입자층은 무기입자 및 판상형 무기바인더를 포함하는, 분리막.
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