초록

하전 입자선 시스템은, 하전 입자원으로부터의 하전 입자 빔을, 하전 입자 광학계를 통해 시료에 조사하는 하전 입자선 장치와, 하전 입자선 장치를 제어하는 제어 시스템을 포함한다.제어 시스템은, 비점수차를 갖는 하전 입자 광학계를 통해, 상기 시료에 대하여 상기 하전 입자 빔을 조사하여 얻어진 신호에 대하여, 하전 입자 빔의 공간적인 확산에 대응하여 변화되는 지표에 기초하는 평가값을 평가하고, 하전 입자 광학계가 갖는 비점수차와 평가의 결과에 기초하여, 시료의 높이 위치와 하전 입자 빔의 수렴면의 위치 관계를 구한다.

대표청구항 ▼

하전 입자원으로부터의 하전 입자 빔을, 하전 입자 광학계를 통해 시료에 조사하는 하전 입자선 장치와,상기 하전 입자선 장치를 제어하는 제어 시스템을 포함하고,상기 제어 시스템은,비점수차를 갖는 상기 하전 입자 광학계를 통해, 상기 시료에 대하여 상기 하전 입자 빔을 조사하여 얻어진 신호에 대하여, 상기 하전 입자 빔의 공간적인 확산에 대응하여 변화되는 지표에 기초하는 평가값을 평가하고,상기 하전 입자 광학계가 갖는 비점수차와 상기 평가의 결과에 기초하여, 상기 시료의 높이 위치와 상기 하전 입자 빔의 수렴면의 위치 관계를 구하는 하

하전 입자원으로부터의 하전 입자 빔을, 하전 입자 광학계를 통해 시료에 조사하는 하전 입자선 장치와,상기 하전 입자선 장치를 제어하는 제어 시스템을 포함하고,상기 제어 시스템은,비점수차를 갖는 상기 하전 입자 광학계를 통해, 상기 시료에 대하여 상기 하전 입자 빔을 조사하여 얻어진 신호에 대하여, 상기 하전 입자 빔의 공간적인 확산에 대응하여 변화되는 지표에 기초하는 평가값을 평가하고,상기 하전 입자 광학계가 갖는 비점수차와 상기 평가의 결과에 기초하여, 상기 시료의 높이 위치와 상기 하전 입자 빔의 수렴면의 위치 관계를 구하는 하전 입자선 시스템.