가동 편향 부재에서 제1 방향으로 편향되는 빔을, 주사용 광학계에 의해서 피조사체 상에 투사하면서 피조사체 상에서 제1 방향을 따라서 1차원 주사하여 피조사체에 패턴을 묘화하는 묘화 장치로서, 비등방적인 굴절력을 가지는 제1 렌즈 부재를 포함하고, 가동 편향 부재에 투사되는 빔을 제1 방향과 직교한 제2 방향에 관해서 수렴시키는 제1 조정 광학계와, 비등방적인 굴절력을 가지는 제2 렌즈 부재를 포함하고, 주사용 광학계로부터 피조사체를 향하는 빔을 제2 방향에 관해서 수렴시키는 제2 조정 광학계를 구비하며, 빔의 파장을 λ, 피조사체
가동 편향 부재에서 제1 방향으로 편향되는 빔을, 주사용 광학계에 의해서 피조사체 상에 투사하면서 피조사체 상에서 제1 방향을 따라서 1차원 주사하여 피조사체에 패턴을 묘화하는 묘화 장치로서, 비등방적인 굴절력을 가지는 제1 렌즈 부재를 포함하고, 가동 편향 부재에 투사되는 빔을 제1 방향과 직교한 제2 방향에 관해서 수렴시키는 제1 조정 광학계와, 비등방적인 굴절력을 가지는 제2 렌즈 부재를 포함하고, 주사용 광학계로부터 피조사체를 향하는 빔을 제2 방향에 관해서 수렴시키는 제2 조정 광학계를 구비하며, 빔의 파장을 λ, 피조사체에 투사되는 빔의 제1 방향에 관한 개구수를 NAy, 제2 방향에 관한 개구수를 NAx, 피조사체에 투사되는 빔의 제1 방향에 관한 구면 수차를 S1, 제2 방향에 관한 구면 수차를 S2로 했을 때, 제1 렌즈 부재와 제2 렌즈 부재는, S1<λ/NAy2, 또한, S2<λ/NAx2 가 되는 조건과, |S1-S2|<λ/NAy2, 또한,|S1-S2|<λ/NAx2 가 되는 조건 중 어느 일방을 만족하도록 설정된다.
대표청구항▼
가동 편향 부재에서 제1 방향으로 편향되는 빔을, 주사용 광학계에 의해서 피조사체 상에 투사하면서 상기 피조사체 상에서 상기 제1 방향을 따라서 1차원 주사하여 상기 피조사체에 패턴을 묘화하는 묘화 장치로서,비등방적인 굴절력을 가지는 제1 렌즈 부재를 포함하고, 상기 가동 편향 부재에 투사되는 상기 빔을 상기 제1 방향과 직교한 제2 방향에 관해서 수렴시키며, 상기 가동 편향 부재의 전에 배치되는 제1 조정 광학계와,비등방적인 굴절력을 가지는 제2 렌즈 부재를 포함하고, 상기 주사용 광학계로부터 상기 피조사체를 향하는 상기 빔을 상
가동 편향 부재에서 제1 방향으로 편향되는 빔을, 주사용 광학계에 의해서 피조사체 상에 투사하면서 상기 피조사체 상에서 상기 제1 방향을 따라서 1차원 주사하여 상기 피조사체에 패턴을 묘화하는 묘화 장치로서,비등방적인 굴절력을 가지는 제1 렌즈 부재를 포함하고, 상기 가동 편향 부재에 투사되는 상기 빔을 상기 제1 방향과 직교한 제2 방향에 관해서 수렴시키며, 상기 가동 편향 부재의 전에 배치되는 제1 조정 광학계와,비등방적인 굴절력을 가지는 제2 렌즈 부재를 포함하고, 상기 주사용 광학계로부터 상기 피조사체를 향하는 상기 빔을 상기 제2 방향에 관해서 수렴시키며, 상기 주사용 광학계와 상기 피조사체와의 사이에 배치되는 제2 조정 광학계를 구비하며,상기 제1 조정 광학계는, 상기 제1 렌즈 부재를 통과한 상기 빔을 상기 가동 편향 부재를 향해서 투사하는 등방적인 굴절력을 가지는 제3 렌즈 부재를 포함하고,상기 제1 렌즈 부재는, 상기 제1 렌즈 부재와 상기 제3 렌즈 부재와의 사이에서 상기 빔을 상기 제1 방향에 관해서 수렴하도록 배치되며,상기 빔의 파장을 λ, 상기 피조사체에 투사되는 상기 빔의 상기 제1 방향에 관한 개구수를 NAy, 상기 제2 방향에 관한 개구수를 NAx, 상기 피조사체에 투사되는 상기 빔의 상기 제1 방향에 관한 구면 수차를 S1, 상기 제2 방향에 관한 구면 수차를 S2로 했을 때, 상기 제1 렌즈 부재와 상기 제2 렌즈 부재는,S1<λ/NAy2, 또한, S2<λ/NAx2 가 되는 조건과,|S1-S2|<λ/NAy2, 또한,|S1-S2|<λ/NAx2 가 되는 조건 중 어느 일방을 만족하도록 설정되는 묘화 장치.
발명자의 다른 특허 :
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이 특허에 인용된 특허 (2)
[미국]
Projection exposure method and apparatus |
Matsuyama Tomoyuki
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