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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2022-7018489 (2022-05-31) | |
공개번호 | 10-2022-0079701 (2022-06-13) | |
등록번호 | 10-2500217-0000 (2023-02-10) | |
우선권정보 | 미국(US) 15/670,919 (2017-08-07) | |
국제출원번호 | PCT/US2018/044639 (2018-07-31) | |
국제공개번호 | WO 2019/032338 (2019-02-14) | |
번역문제출일자 | 2022-05-31 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020227018489 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2022-05-31) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 기술의 실시예들은 식각 방법을 포함할 수 있다.방법은, 제1 혼합물을 형성하기 위해 플라즈마 유출물들을 챔버의 제1 섹션의 가스와 혼합하는 단계를 포함할 수 있다.방법은 또한, 제1 혼합물을 챔버의 제2 섹션의 기판으로 유동시키는 단계를 포함할 수 있다.제1 섹션 및 제2 섹션은 니켈 도금된 물질을 포함할 수 있다.방법은, 제2 층에 대해 선택적으로 제1 층을 식각하기 위해 제1 혼합물을 기판과 반응시키는 단계를 더 포함할 수 있다.추가적으로, 방법은, 제1 혼합물과 기판의 반응으로부터의 생성물들을 포함하는 제2 혼합물을 형성하
식각 방법으로서,제1 혼합물을 형성하기 위해 플라즈마 유출물들을 챔버의 제1 섹션의 가스와 혼합하는 단계 ― 상기 제1 섹션은 니켈 도금된 물질을 포함함 ―;상기 제1 혼합물을 상기 챔버의 제2 섹션의 기판으로 유동시키는 단계 ― 상기 제2 섹션은 니켈 도금된 물질을 포함하고, 상기 제1 혼합물은 상기 제1 섹션으로부터 상기 제2 섹션으로 상기 챔버 내의 경로에서 유동하며, 상기 경로는 상기 챔버의 니켈 도금된 부분들에 의해 한정됨 ―;제2 층에 대해 선택적으로 제1 층을 식각하기 위해 상기 제1 혼합물을 상기 기판과 반응시키는 단
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