야시키 히로요시
/ 일본 ******* 도쿄도 치요다쿠 마루노우치 *초메 *방 *고 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 내
나토리 요시아키
/ 일본 ******* 도쿄도 치요다쿠 마루노우치 *초메 *방 *고 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 내
도미타 미호
/ 일본 ******* 도쿄도 치요다쿠 마루노우치 *초메 *방 *고 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 내
다케다 가즈토시
/ 일본 ******* 도쿄도 치요다쿠 마루노우치 *초메 *방 *고 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 내
마츠모토 다쿠야
/ 일본 ******* 도쿄도 치요다쿠 마루노우치 *초메 *방 *고 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 내
출원인 / 주소
닛폰세이테츠 가부시키가이샤 / 일본 도꾜도 지요다꾸 마루노우찌 *쪼메 *방 *고
대리인 / 주소
양영준;
최인호;
성재동
심사청구여부
있음 (2022-11-11)
법적상태
공개
초록▼
모재의 화학 조성이, 질량%로, C: 0.0010 내지 0.0040%, Si: 4.0 내지 5.0%, Mn: 0.20% 이하, Al: 0.010% 이상 0.050% 미만, P: 0.030% 이하, S: 0.0030% 이하, N: 0.0005 내지 0.0030%, O: 0.0100 내지 0.0400%, Ca: 0.0010% 미만, Ti: 0.0050% 미만, Nb: 0.0050% 미만, Zr: 0.0050% 미만, V: 0.0050% 미만, Cu: 0.20% 미만, Ni: 0.50% 미만, Sn: 0 내지 0.05%, Sb: 0 내지
모재의 화학 조성이, 질량%로, C: 0.0010 내지 0.0040%, Si: 4.0 내지 5.0%, Mn: 0.20% 이하, Al: 0.010% 이상 0.050% 미만, P: 0.030% 이하, S: 0.0030% 이하, N: 0.0005 내지 0.0030%, O: 0.0100 내지 0.0400%, Ca: 0.0010% 미만, Ti: 0.0050% 미만, Nb: 0.0050% 미만, Zr: 0.0050% 미만, V: 0.0050% 미만, Cu: 0.20% 미만, Ni: 0.50% 미만, Sn: 0 내지 0.05%, Sb: 0 내지 0.05%, 잔부: Fe 및 불순물이고, 모재의 표면으로부터 깊이 방향으로 10㎛의 위치까지를 제외한 영역에서의 O 함유량이 0.0050% 미만인, 무방향성 전자 강판.
대표청구항▼
모재의 화학 조성이, 질량%로,C: 0.0010 내지 0.0040%,Si: 4.0 내지 5.0%,Mn: 0.20% 이하,Al: 0.010% 이상 0.050% 미만,P: 0.030% 이하,S: 0.0030% 이하,N: 0.0005 내지 0.0030%,O: 0.0100 내지 0.0400%,Ca: 0.0010% 미만,Ti: 0.0050% 미만,Nb: 0.0050% 미만,Zr: 0.0050% 미만,V: 0.0050% 미만,Cu: 0.20% 미만,Ni: 0.50% 미만,Sn: 0 내지 0.05%,Sb: 0 내지 0.05%, 그리고잔부: Fe
모재의 화학 조성이, 질량%로,C: 0.0010 내지 0.0040%,Si: 4.0 내지 5.0%,Mn: 0.20% 이하,Al: 0.010% 이상 0.050% 미만,P: 0.030% 이하,S: 0.0030% 이하,N: 0.0005 내지 0.0030%,O: 0.0100 내지 0.0400%,Ca: 0.0010% 미만,Ti: 0.0050% 미만,Nb: 0.0050% 미만,Zr: 0.0050% 미만,V: 0.0050% 미만,Cu: 0.20% 미만,Ni: 0.50% 미만,Sn: 0 내지 0.05%,Sb: 0 내지 0.05%, 그리고잔부: Fe 및 불순물이며,상기 모재의 표면으로부터 깊이 방향으로 10㎛의 위치까지를 제외한 영역에서의 O 함유량이 0.0050% 미만인,무방향성 전자 강판.
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