초록

본 발명은 히알루론산 분말 자체에 20~300kGy범위의 선량으로 방사선을 1회 이상 조사하여 저분자화함으로써 제조공정을 단순화하면서도 수율을 향상시킬 수 있는 피부침투가 용이한 저분자 히알루론산의 제조방법에 관한 것이다.

대표청구항 ▼

(a) 분자량 300만~400만Da을 갖는 히알루론산 분말에 20kGy 선량으로 방사선을 5회 또는 50kGy의 선량으로 방사선을 2회 조사하여 저분자화하는 단계;(b) 정제수에 상기 저분자화된 히알루론산 분말을 용해시킨 후 유기용매를 첨가하여 히알루론산 용액을 제조하는 단계;(c) 광확산제에 유기용매를 혼합시켜 광확산 용액을 제조하는 단계;(d) 상기 (b)단계에서 제조된 히알루론산 용액에 상기 (c)단계에서 제조된 광확산 용액을 부가한 후 가교제를 첨가 및 교반하여 광가교된 히알루론산 용액을 제조하는 단계;(e)상기 광가교된 히

(a) 분자량 300만~400만Da을 갖는 히알루론산 분말에 20kGy 선량으로 방사선을 5회 또는 50kGy의 선량으로 방사선을 2회 조사하여 저분자화하는 단계;(b) 정제수에 상기 저분자화된 히알루론산 분말을 용해시킨 후 유기용매를 첨가하여 히알루론산 용액을 제조하는 단계;(c) 광확산제에 유기용매를 혼합시켜 광확산 용액을 제조하는 단계;(d) 상기 (b)단계에서 제조된 히알루론산 용액에 상기 (c)단계에서 제조된 광확산 용액을 부가한 후 가교제를 첨가 및 교반하여 광가교된 히알루론산 용액을 제조하는 단계;(e)상기 광가교된 히알루론산 용액 100중량부에 염화나트륨 수용액 1~3중량부와 유기용매 1200~1400중량부를 첨가하여 3000~5000rpm으로 1~20분 동안 원심분리하고 침전물을 수득하는 단계; 및(f) 상기 침전물을 정제수에 용해시킨 후 여과 및 5회 동결건조하는 단계;를 포함하고,상기 (a)단계에서 저분자화된 히알루론산 분말의 평균 분자량은 80,000~100,000Da이며, 히알루론산 50% 용액에서의 점도는 300~180,000cp이고,상기 (e)단계에서 염화나트륨 수용액과 유기용매는 1: 700~900 중량비로 첨가되는, 피부침투가 용이한 저분자 히알루론산의 제조방법.