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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2023-0150828 (2023-11-03) | |
공개번호 | 10-2024-0065028 (2024-05-14) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020220145611 (2022-11-03);대한민국(KR) 1020220145614 (2022-11-03);대한민국(KR) 1020220145619 (2022-11-03);대한민국(KR) 1020220145620 (2022-11-03);대한민국(KR) 1020220145621 (2022-11-03);대한민국(KR) 1020220145625 (2022-11-03) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020230150828 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2023-11-03) | |
법적상태 | 공개 |
실시예는, 메인 스테이지, 및 상기 메인 스테이지에 양극판, 음극판, 및 분리막을 적층하는 적층 헤드를 포함하는 적층 모듈; 상기 양극판을 공급하는 양극판 공급 모듈; 상기 음극판을 공급하는 음극판 공급 모듈; 상기 분리막을 공급하는 분리막 공급 모듈; 및 상기 분리막 공급 모듈과 상기 적층 헤드 사이에 배치되어 상기 분리막의 텐션을 조절하는 텐션 조절 모듈을 포함하는 스택 장치를 개시한다.
메인 스테이지, 및 상기 메인 스테이지에 양극판, 음극판, 및 분리막을 적층하는 적층 헤드를 포함하는 적층 모듈;상기 양극판을 공급하는 양극판 공급 모듈; 상기 음극판을 공급하는 음극판 공급 모듈;상기 분리막을 공급하는 분리막 공급 모듈; 및상기 분리막 공급 모듈과 상기 적층 헤드 사이에 배치되어 상기 분리막의 텐션을 조절하는 텐션 조절 모듈을 포함하는 스택 장치.
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