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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2023-0153715 (2023-11-08) | |
등록번호 | 10-2633687-0000 (2024-01-31) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020230153715 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2023-11-08) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
가공오차 및 조립오차에 관계없이 펀치와 다이 사이의 간격을 용이하게 조절할 수 있는 이차전지의 전극 가공용 노칭금형이 개시된다.개시된 이차전지의 전극 가공용 노칭금형은,다이 홀더와 상기 다이 홀더 상부에 형성된 다이를 포함하는 다이부재; 펀치 홀더와 상기 폰치 홀더 하부에 형성된 펀치를 포함하며, 상기 다이부재 측으로 승강 작동하는 펀치부재; 상기 펀치와 다이 사이의 간격을 조절하는 클리어런스 조정부;를 포함한다. 여기서, 상기 클리어런스 조정부는, 상기 다이 홀더의 내부에 형성된 조정 공간; 상기 조정 공간 내부에 형성된 압착판;
다이 홀더와 상기 다이 홀더 상부에 형성된 다이를 포함하는 다이부재;펀치 홀더와 상기 펀치 홀더 하부에 형성된 펀치를 포함하며, 상기 다이부재 측으로 승강 작동하는 펀치부재;상기 펀치와 다이 사이의 간격을 조절하는 클리어런스 조정부;를 포함하며, 상기 클리어런스 조정부는,상기 다이 홀더의 내부에 형성된 조정 공간;상기 조정 공간 내부에 형성된 압착판;상기 조정 공간의 일측 내벽과 상기 압착판 사이에 형성된 압축 스프링;상기 압착판과 상기 조정 공간의 타측 내벽 사이에 삽입되는 스페이서;를 포함하는, 이차전지의 전극 가공용 노칭금형.
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