초록 ▼

1. 유동상 열처리로의 레토르트(6)내에서 가스실(G.C)의 상부에 고정 설치되며 상면에 복수열의 유동홈(21a)이 교차되게 형성되고 이 유동홈(21a)의 교차 부위에 복수개의 가스 유입공(21b)이 형성되는 가스 분산판(21)과, 이 가스 분산판(21)의 각 가스 유입공(21b)에 삽입되는 몸통부(23a)와 이 몸통부(23a)의 상하부에 형성되는 머리부(23b) 및 나사부(23c)를 가지는 볼트(23)와 이 볼트(23)의 나사부(23c)에 체결되는 너트(24)를 가지는 알루미나 입자 낙하 방지 및 분사량 조절 수단(22)으로 구

1. 유동상 열처리로의 레토르트(6)내에서 가스실(G.C)의 상부에 고정 설치되며 상면에 복수열의 유동홈(21a)이 교차되게 형성되고 이 유동홈(21a)의 교차 부위에 복수개의 가스 유입공(21b)이 형성되는 가스 분산판(21)과, 이 가스 분산판(21)의 각 가스 유입공(21b)에 삽입되는 몸통부(23a)와 이 몸통부(23a)의 상하부에 형성되는 머리부(23b) 및 나사부(23c)를 가지는 볼트(23)와 이 볼트(23)의 나사부(23c)에 체결되는 너트(24)를 가지는 알루미나 입자 낙하 방지 및 분사량 조절 수단(22)으로 구성됨을 특징으로하는 유동상 열처리로의 가스 분사 장치. 2. 제1항에 있어서, 상기 가스 유입공(21b)의 상단에 상당하는 가스 분사판(21)의 상면에 볼트(23)의 머리부(23d)가 삽입 안착되는 안착홈(21c)가 형성되고, 상기 너트(24)의 상면에는 가스 유도홈(24a)가 형성된 것을 특징으로 하는 유동상 열처리로의 가스 분사 장치.

대표청구항 ▼

유동상 열처리로의 레토르트(6)내에서 가스실(G.C)의 상부에 고정설치되며 상면에 복수열의 유동홈(21a)이 교차되게 형성되고 이 유동홈(21a)의 교차 부위에 가스유입공(21b)이 형성되는 가스분산판(21)과, 이 가스분산판(21)의 각 가스유입공(21b)에 삽입되는 몸통부(23a)와 이 몸통부(23a)의 상하부에 형성되는 머리부(23b) 및 나사부(23c)를 가지는 볼트(23)와 이 볼트(23)의 나사부(23c)에 체결되는 너트(24)를 가지는 알루미나 입자 낙하방지 및 분사량 조절수단(22)으로 구성됨을 특징으로 하는 유동상

유동상 열처리로의 레토르트(6)내에서 가스실(G.C)의 상부에 고정설치되며 상면에 복수열의 유동홈(21a)이 교차되게 형성되고 이 유동홈(21a)의 교차 부위에 가스유입공(21b)이 형성되는 가스분산판(21)과, 이 가스분산판(21)의 각 가스유입공(21b)에 삽입되는 몸통부(23a)와 이 몸통부(23a)의 상하부에 형성되는 머리부(23b) 및 나사부(23c)를 가지는 볼트(23)와 이 볼트(23)의 나사부(23c)에 체결되는 너트(24)를 가지는 알루미나 입자 낙하방지 및 분사량 조절수단(22)으로 구성됨을 특징으로 하는 유동상 열처리로의 가스분사장치.