초록 ▼

본 고안은 반도체 장치의 가스 공급 시스템에 관한 것으로, 본 고안에 의한 가스 공급 시스템은 2개의 가스 용기로부터 각각 제1 라인 및 제2 라인을 통해 반도체 장치의 입구로 가스를 공급하고, 상기 제1 라인과 제2 라인 사이에 유체가 통할 수 있는 병렬 라인이 연결되고, 상기 병렬 라인은 유체의 흐름을 개방 또는 폐쇄시킬 수 있는 개폐 수단을 포함한다. 본 고안에 의하면 1개의 가스 용기에 충전된 가스를 다 사용한 후에도 가스 공급 시스템의 운전을 중단시킬 필요 없이 나머지 다른 가스 용기내의 가스를 계속 사용할 수 있으므로,

본 고안은 반도체 장치의 가스 공급 시스템에 관한 것으로, 본 고안에 의한 가스 공급 시스템은 2개의 가스 용기로부터 각각 제1 라인 및 제2 라인을 통해 반도체 장치의 입구로 가스를 공급하고, 상기 제1 라인과 제2 라인 사이에 유체가 통할 수 있는 병렬 라인이 연결되고, 상기 병렬 라인은 유체의 흐름을 개방 또는 폐쇄시킬 수 있는 개폐 수단을 포함한다. 본 고안에 의하면 1개의 가스 용기에 충전된 가스를 다 사용한 후에도 가스 공급 시스템의 운전을 중단시킬 필요 없이 나머지 다른 가스 용기내의 가스를 계속 사용할 수 있으므로, 사용되는 가스의 교체 주기가 증가되고, 따라서 작업 효율을 향상시킬 수 있다.

대표청구항

2개의 가스 용기로부터 각각 제1 라인 및 제2 라인을 통해 반도체 장치의 입구로 가스를 공급하는 반도체 장치의 가스 공급 시스템에 있어서 , 상기 제1 라인과 제2 라인 사이에는 상기 2개의 가스 용기의 가스 출구 근방에서 유체가 통할 수 있는 병렬 라인이 연결되고, 상기 병렬 라인은 유체의 흐름을 개방 또는 폐쇄시킬 수 있는 개폐 수단을 포함하고, 상기 제1 라인과 제2 라인중 적어도 1개의 라인상에서 상기 병렬 라인이 분기되는 분기점의 하류에 라인 개폐용 밸브를 갖춘 것을 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.

2개의 가스 용기로부터 각각 제1 라인 및 제2 라인을 통해 반도체 장치의 입구로 가스를 공급하는 반도체 장치의 가스 공급 시스템에 있어서 , 상기 제1 라인과 제2 라인 사이에는 상기 2개의 가스 용기의 가스 출구 근방에서 유체가 통할 수 있는 병렬 라인이 연결되고, 상기 병렬 라인은 유체의 흐름을 개방 또는 폐쇄시킬 수 있는 개폐 수단을 포함하고, 상기 제1 라인과 제2 라인중 적어도 1개의 라인상에서 상기 병렬 라인이 분기되는 분기점의 하류에 라인 개폐용 밸브를 갖춘 것을 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.