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[한국특허] 반도체 공정의 화학기상증착장비에 사용되는 가스 안전 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개실용신안
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/20
출원번호 20-1997-0017250 (1997-06-30)
공개번호 20-1999-0003652 (1999-01-25)
DOI http://doi.org/10.8080/2019970017250
발명자 / 주소
  • 성재민 / 충청북도 충주시 주덕읍 신양 *리 ***-**번지
출원인 / 주소
  • 주식회사 하이닉스반도체 / 경기 이천시 부발읍 아미리 산***-*
대리인 / 주소
  • 이후동; 이정훈 (Lee, Hoo Dong)
  • 서울 강남구 역삼*동 ***-** 한국타이어빌딩 *층(태평양특허법률사무소); 서울 강남구 역삼동 ***-** 한국타이어빌딩*-*층(특허법인태평양)
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 고안은 종래 반도체 공정, 특히 화학 기상증착공정을 위한 가스 공급시스템에서 밸브 등의 가스 시스템에서의 하드웨어 에러시에 유독 가스 배출에 대한 대책을 보완하여 각 배출점별로 역류방지 밸브 등을 이용한 독립적인 배출구들을 형성하고 이들 배출구를 제어하는 밸브 등을 자동 및 수동의 이중 구조로 구성함에 의해 시스템의 신뢰도를 향상시키고 안전성을 높였으며, 이러한 전체 가스시스템을 제어패널상에서 한 눈에 제어할 수 있도록 한 것이다.

대표청구항

반도체 공정상에 필요한 유독 가스를 공급하고 사용된 가스를 배출하기 위한 가스장치에 채용되는 가스 안전장치에 있어서, 상기 가스 안전장치는가스실내부에서 공정실로 가스를 공급하는 가스라인상에 위치하는 밸브에 의해 구분되는 다수의 동작점과;상기 동작점의 복수개, 혹은 한개마다 존재하는 배출점과;상기 배출점마다 구성된 가스 배출라인을 포함하며;상기 가스배출라인은 각각 직렬연결된 수동밸브 및 역류방지용 밸브를 통해 전체 가스배출구로 연결되고;상기 다수의 자동밸브부를 제어하는 제어부 및 조작패널부를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스안전시스템

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