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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록실용신안 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 20-2002-0004129 (2002-02-08) |
등록번호 | 20-0280676-0000 (2002-06-24) |
DOI | http://doi.org/10.8080/2020020004129 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 설정등록의뢰 |
법적상태 | 소멸 |
본 고안은 다이옥신 제거장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 폐기물 소각시설에서 발생되는 배가스를 고온 플라즈마를 이용하여 완전 연소시킨 후, 냉각 및 세정수를 분무하여 배가스를 신속히 냉각시킴으로써 후공정에서 다이옥신이 재합성되거나 질소산화물이 생성되는 것을 방지하고, 배가스에 포함된 각종 환경물질을 세정할 수 있는 고온 플라즈마를 이용한 다이옥신 및 분진 제거장치에 관한 것이다. 본 고안은 공지의 폐기물 소각시설에 있어서, 상기 폐기물 소각시설의 소각로에서 발생되며 다이옥신 전구물질, 검댕, 비산회재 및 불완
폐기물의 소각시설에 있어서, 상기 소각시설의 소각로에서 발생되며 다이옥신과 다이옥신 전구물질, 비산회재 및 불완전연소물질 등이 포함된 배가스가 유입되는 반응실과; 상기 반응실 내로 유입된 배가스를 고온 플라즈마를 이용하여 완전 연소시키기 위해 상기 반응실의 일측에 설치되는 고온 플라즈마 토치와; 상기 반응실에서 배출된 배출가스를 신속히 냉각시켜 다이옥신이 재합성되거나 질소산화물이 형성되는 것을 방지함과 아울러 배가스 중에 포함된 황화수소, 황산화물과 분진 등을 세정할 수 있도록 다수의 냉각수 노즐이
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