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연합인증

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배기 가스 트랩 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개실용신안
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-021/67
  • B01D-049/00
출원번호 20-2018-0003653 (2018-08-07)
공개번호 20-2020-0000366 (2020-02-17)
DOI http://doi.org/10.8080/2020180003653
발명자 / 주소
  • 정명호 / 경기도 이천시 애련정로 ***, ***동 ****호 (증포동, 설봉*차 푸르지오)
출원인 / 주소
  • 정명호 / 경기도 이천시 애련정로 ***, ***동 ****호 (증포동, 설봉*차 푸르지오)
대리인 / 주소
  • 김영관
심사청구여부 있음 (2018-08-07)
심사진행상태 거절결정(재심사)
법적상태 거절

초록

배기 가스 트랩 장치가 개시된다. 배기 가스 트랩 장치는, 공정 챔버로부터 배출되는 배기 가스가 유입되는 유입부가 일측에 돌출되고 내부에는 포집 공간이 형성된 하부 트랩 하우징과, 하부 트랩 하우징에 착탈 가능하게 결합되며 내부에는 하부 트랩 하우징과의 사이에 포집 공간을 형성하며 측면에는 이물질이 제거된 배기 가스가 배출되는 배출부가 돌출되는 상부 트랩 하우징과, 포집 공간에 설치되며 배기 가스가 통과되는 복수개의 관통홀이 형성되어 배기 가스에 포함된 이물질이 축적되는 복수개의 타공판을 포함한다.

대표청구항

공정 챔버로부터 배출되는 배기 가스가 유입되는 유입부가 일측에 돌출되고 내부에는 포집 공간이 형성된 하부 트랩 하우징;상기 하부 트랩 하우징에 착탈 가능하게 결합되며 내부에는 상기 하부 트랩 하우징과의 사이에 상기 포집 공간을 형성하며, 측면에는 이물질이 제거된 배기 가스가 배출되는 배출부가 돌출되는 상부 트랩 하우징; 및상기 포집 공간에 설치되며 상기 배기 가스가 통과되는 복수개의 관통홀이 형성되어 상기 배기 가스에 포함된 이물질이 축적되는 복수개의 타공판;을 포함하고,상기 관통홀은, 상기 타공판의 직경 크기에 대해 1/3 내지

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 파우더 방지용 트랩이 구성된 반도체 제조장치 | 임유동, 김경민
  2. [한국] 유체 또는 유체 스트림의 흡착 처리용 장치 | 앙팡, 한스-게오르그, 하멜 크리스티안, 모들 노르베르트
  3. [일본] LIQUID COOLED TRAP | GU YOUFAN, HAUSCHULTZ DANA S
  4. [한국] 반도체 제조공정용 파우더 트랩장치 | 남기흠, 박동승
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