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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0001737 (2004-12-02) |
공개번호 | US-0136672 (2005-06-23) |
우선권정보 | JP-0404439 (2003-12-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
The present invention aims to provide an etching solution composition which enables to etch a metal film in a controllable manner, form a desired definite tapered shape, and obtain a smooth surface without causing etching solution exudation trace. Said problems have been solved by the present invent
1. An etching solution composition for etching a metal film, comprising one or more sufactants selected from the group consisting of alkyl sulfate or perfluoroalkenyl phenyl ether sulfonic acid, and the salts thereof. 2. The etching solution composition according to claim 1, wherein the salt of alky
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