최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0060071 (2005-02-16) |
공개번호 | US-0180026 (2006-08-17) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
대리인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
In a deposition system, such as a TiN deposition system where TiCl4 and NH3 are reacted in a process chamber to produce TiN thin film coatings, a second reactor is included between the process chamber and the vacuum pump to react enough of the theretofore unreacted feed gases to consume substantiall
1. A method of protecting a vacuum pump connected by a foreline to a process chamber in a TiN deposition system from wear caused by solid products of reactions of TiCl4 and NH3 feed gases, comprising: condensing and trapping condensable TiCl4.nNH3 (n=2, 4, and/or 8) and NH4Cl byproducts of reaction
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.