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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0195620 (2005-08-03) |
공개번호 | US-0031596 (2007-02-08) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
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What is claimed is: 1. A method for reducing particle contamination, applied in a low pressure Chemical Vapor Deposition apparatus, comprising: performing a loading recipe for setting a status of the low pressure Chemical Vapor Deposition apparatus, wherein the loading recipe comprises performing a
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