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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0627624 (2009-11-30) |
공개번호 | US-0136244 (2010-06-03) |
우선권정보 | JP-2008-308536(2008-12-03) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
Disclosed is an electroless nickel plating bath not containing harmful metal species. In the electroless nickel plating bath, there are contained at least an iron ion source and an iodide ion source. With the use of the electroless nickel plating bath containing at least the iron ion source and the
1. An electroless nickel plating bath at least containing an iron ion source and an iodide ion source. 2. The electroless nickel plating bath according to claim 1 further containing an iodate ion source or a bromate ion source as an oxidizing agent. 3. The electroless nickel plating according t
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