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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0040401 (2018-07-19) |
공개번호 | US-0035656 (2019-01-31) |
우선권정보 | KR-10-2017-0094514 (2017-07-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
The present invention relates to an apparatus of controlling a temperature of a wafer cleaning equipment capable of quickly and accurately determining a detection abnormality of a temperature sensor located inside a cleaning tank, and a method of controlling a temperature using the same. The apparat
1. An apparatus of controlling a temperature of a wafer cleaning equipment, comprising: a cleaning tank including an inner tank configured to accommodate a cleaning solution for cleaning wafers accommodated in a cassette and an outer tank configured to accommodate the cleaning solution overflowing f
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