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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | 16236887 (2018-12-31) |
공개번호 | 20190141855 (2019-05-09) |
우선권정보 | JP-2016-131801 (2016-07-01) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 0 인용 특허 : 0 |
Provided is a vapor chamber that is extremely thin but nonetheless allows a working fluid to smoothly flow back, prevents dry-out and provides a superior heat transport capability, regardless of an installation orientation such as a top heat orientation or a change in the installation orientation. A
1. A vapor chamber comprising: a container having a hollow portion, the hollow portion being formed by one plate-shaped body and another plate-shaped body facing the one-plate shaped body;a working fluid enclosed in the hollow portion;a first wick structure provided in the hollow portion; anda secon
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