[특허]Photomasks with antistatic control

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[미국특허] Photomasks with antistatic control 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B05D-005/12
출원번호	US-0480618 (1974-06-19)
발명자 / 주소	Fraser David Bruce (Berkeley Heights NJ)
출원인 / 주소	Bell Telephone Laboratories, Incorporated (Murray Hill NJ 02)
인용정보	피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 0

초록 ▼

In high resolution lithography, resolution impairment sometimes occurs due to dust collecting on the mask. The dust is often attracted to the mask by static electricity. The solution proposed is to coat the entire photomask with a transparent, electrically conductive coating. The coating is electrically grounded to drain static charge. Conductive materials are often used for lithographic masks, but the patterns cannot be grounded effectively because there are island regions in the pattern. If the pattern is itself conducting, there is the added option of applying the antistatic layer under the pattern. If the pattern is formed of a photographic emulsion of a patterned photoresist, it is protected from damage and wear in handling by the harder conductive coating.

대표청구항 ▼

A photomask for use in photolithographic processing of semiconductor microcircuits comprising a rigid, transparent plate, a patterned photomask coating on the plate, the coating having void spaces representing a positive or negative image of at least partial features of said microcircuit, a continuous, transparent, electrically conductive film covering the photomask pattern and the void spaces, and electrical contact means for electrically grounding the film.

이 특허를 인용한 특허 (9) 인용/피인용 타임라인 분석

Dhanakoti Padmanabhan (Austin TX) Moore Gerry W. (Valley Mills TX) Smith Harold F. (Cedar Park TX), Antistatic mask for use with electronic test apparatus.
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Bean, Heather Noel; Robins, Mark Nelson, Conductively coated and grounded optics to eliminate dielectric dust attraction.
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Parker, Jeffrey B., Covered photomask holder and method of using the same.
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Sakurai Kunio (Hino JPX) Kojima Tadashi (Hino JPX) Itoh Hiroshi (Tachikawa JPX), Mask blank and mask.
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Jae Cho ; Zhi-Min Ling ; Xin X. Wu, Methods and structures for protecting reticles from ESD failure.
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Hata,Yoji, Photomask covered with light-transmissive and electrically-conductive polymer material.
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Adams Arthur C. (Berkeley Heights NJ) Alexander ; Jr. Frank B. (Totowa NJ) Levinstein Hyman J. (Berkeley Heights NJ) Thibault Louis R. (Piscataway NJ), Reducing charging effects in charged-particle-beam lithography.
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Nishikawa,Akira; Sugiyama,Naoki; Shimomura,Hiroomi, Reflection preventing film laminated body and method of manufacturing the laminated body.
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Bessy Andrew ; Doyle James P. ; Gross Vaughn P. ; Guarnieri C. Richard ; Heh Rick J. ; Murray Kenneth D. ; Speidell James L., Static resistant reticle.
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A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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