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Double slide focal plane shutter 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03B-009/20
  • G03B-009/08
출원번호 US-0637308 (1975-12-03)
우선권정보 DT-2458005 (1974-12-07)
발명자 / 주소
  • Papke Friedrich (Braunschweig DT)
출원인 / 주소
  • Rollei-Werke Franke & Heidecke (Braunschweig DT 03)
인용정보 피인용 횟수 : 2  인용 특허 : 0

초록

Each slide is comprised of an exposure slit defining lamella moved on parallel swinging arms in front of the image aperture, whereby the arms overlap each other in part, as well as the lamella to provide additionally shutter functions for covering portions of the aperture which are to be covered but

대표청구항

In a double slide focal plane shutter for photographic cameras, a multiple Element slide disposed in front of an image aperture defined by partitioning means or the like in the cameras, the slide comprising: a lamella covering only a portion of the image aperture in the camera, and having a slit def

이 특허를 인용한 특허 (2)

  1. Arai Kiyoyuki (Tokyo JPX), Blade type focal plane shutter.
  2. Eromäki, Marko, Camera shutter assembly having casing walls for guiding a shutter and method for producing same.
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