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Photocell control device for a photographic film processor 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G03D-013/00
출원번호 US-0494875 (1974-08-05)
발명자 / 주소
  • Krehbiel Vivian D. (Wichita KS) Cord Carl E. (Wichita KS)
출원인 / 주소
  • Kreonite, Inc. (Wichita KS 02)
인용정보 피인용 횟수 : 12  인용 특허 : 0

초록

A method and a processor having infrared sensed chemical replenishing system for processing photosensitive material. The processor includes a replenishing circuitry having a power supply; a pulsed infrared sensor electrically connected to the power supply for measuring the width of photosensitive ma

대표청구항

An infrared sensed chemical replenishing system for a photosensitive material processor, the system comprising: a power supply; a pulsed infrared sensing means including; emitter means having an infrared emitting diode, said sensing means electrically connected to said power supply for measuring the

이 특허를 인용한 특허 (12)

  1. Osegowitsch Viktor (Taufkirchen DEX) Leuchter Jrgen (Tutzing DEX), Arrangement for and a method of processing photosensitive articles.
  2. Osegowitsch, Viktor, Arrangement for and method of regenerating processing baths for photosensitive materials.
  3. Uchida Makoto (Hachioji JPX) Kakuhari Hiroyuki (Hino JPX) Isogawa Wataru (Hachioji JPX) Amano Tadashi (Hachioji JPX), Automatic developing apparatus.
  4. Leuchter Jrgen (Tutzing DEX), Continuous film-developing machine.
  5. Libicky Arnost (Marly CHX) Mueller Walter E. (Fribourg CHX), Method and apparatus for regenerating photographic processing solution.
  6. Isono Koichi (Hikone JPX) Sho Ikuo (Hikone JPX), Method of and apparatus for detecting presence or absence of photosensitive object at a prescribed position.
  7. Ellsworth Roger D. (Rochester NY) Richards William A. (Rochester NY) Samuels James T. (Rochester NY) Bober James K. (Rochester NY), Optical web detection and measurement system especially adapted for controlling replenishment of X-ray.
  8. Rubin Barry P. (Maple Grove MN), Photographic film type sensor.
  9. Wysokowski John Philip (Fairport NY) Graff Ernest A. (Ontario NY) Walton Robert Lewis (Fairport NY) Abbey Mark D. (Rochester NY) Deuel Kevin Peter (Rochester NY), Precision center guiding of a web coated with light sensitive photographic emulsion.
  10. Ellsworth Roger D. (Rochester NY), Process for replenishing solutions in a film processor.
  11. Millis Edwin G. (Dallas TX) Wood ; Jr. Samuel J. (Plano TX), Sensor for determining photoresist developer strength.
  12. Carvalko ; Joseph R. ; Tolmie ; Jr. ; Robert J., System for controlling concentration of developer solution.
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