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Intense ion beam generator 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-027/00
출원번호 US-0695219 (1976-06-11)
발명자 / 주소
  • Humphries
  • Jr. Stanley (Ithaca NY) Sudan Ravindra N. (Ithaca NY)
출원인 / 주소
  • Cornell Research Foundation, Inc. (Ithaca NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 0

초록 ▼

Methods and apparatus for producing intense megavolt ion beams are disclosed. In one embodiment, a reflex triode-type pulsed ion accelerator is described which produces ion pulses of more than 5 kiloamperes current with a peak energy of 3 MeV. In other embodiments, the device is constructed so as to

대표청구항 ▼

The method of generating intense ion fluxes comprising: providing an anode surface and a closely spaced cathode surface in a vacuum chamber, said anode surface being substantially transparent to electrons and including a material capable of forming a plasma; maintaining said cathode surface at a gro

이 특허를 인용한 특허 (16)

  1. Bunker Stephen N., Device for measuring flux and accumulated dose for an ion beam containing a radioactive element.
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  2. Delaunay Marc (Grenoble FRX) Gualandris Ren (Grenoble FRX) Geller Richard (Grenoble FRX) Jacquot Claude (St Egreve FRX) Ludwig Paul (Grenoble FRX) Mathonnet Jean-Marc (Grenoble FRX) Rocco Jean-Claude, Electron cyclotron resonance ion source.
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  3. Ghanbari Ebrahim (Huntington NY), Electron cyclotron resonance plasma source.
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  4. Kapetanakos Christos A. (Bethesda MD) Pasour John A. (Alexandria VA) Mahaffey Redge A. (Clinton MD) Golden Jeffry (Laurel MD) Marsh Spencer J. (Oxon Hill MD), Intense ion beam generation with an inverse reflex tetrode (IRT).
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  5. Kapetanakos ; Christos A. ; Golden ; Jeffry, Intense ion beam producing reflex triode.
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  6. Adler Richard J. (Albuquerque NM), Ion implantation source and device.
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  7. Farley Marvin ; Dudnikov Vadim G. ; Nasser-Ghodsi Mehran, Ion implantation with charge neutralization.
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  8. Boyer Robert (Pierrelatte FRX) Journoux Jean-Pierre (Piolenc FRX), Ion source.
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  9. Bunker Stephen N., Ion source for generation of radioactive ion beams.
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  10. Demos, Alexandros T.; Ponnekanti, Hari K.; Zhao, Jun; Armer, Helen R.; Livesay, William R.; Woods, Scott C., Large area source for uniform electron beam generation.
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  11. Regan W. Stinnett ; John B. Greenly, Method and apparatus for altering material.
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  12. Matsuda Koji (Shiga JPX) Takagi Toshinori (Kyoto JPX) Ishikawa Junzo (Kyoto JPX), Microwave ion source.
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  13. Stinnett Regan W. (Albuquerque NM), Negative ion generator.
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  14. Geller Richard (4 ; place Grenette 3800 Grenoble FRX) Gugliermotte Francis (1 ; boulevard Jomardiere 38120 Saint Egreve FRX), Process and apparatus for producing highly charged large ions and an application utilizing this process.
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  15. Pasour John A. (Alexandria VA) Kapetanakos Christos A. (Bethesda MD) Mahaffey Redge A. (Wheaton MD) Golden Jeffry (Laurel MD), Reflex tetrode for producing an efficient unidirectional ion beam.
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  16. Armini Anthony J., Sputter cathode for application of radioactive material.
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