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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0684418 (1976-05-07) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 0 |
A thin film of a low-thermionic-work-function material is maintained on the cathode of a device for producing a high-current, low-pressure gas discharge by means of sputter deposition from an auxiliary electrode. The auxiliary electrode includes a surface with a low-work-function material, such as t
In a device for producing an ion beam including a gas-tight chamber with means for providing ionizable, inert gas at near vacuum pressures within said chamber, said chamber containing a cathode comprising a heat-resistant material and having an outer electron emissive surface adapted for thermionic
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