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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0019585 (1979-03-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 21 인용 특허 : 3 |
Amorphous silicon Schottky barrier solar cells which incorporate a thin insulating layer and a thin doped layer adjacent to the junction forming metal layer exhibit increased open circuit voltages compared to standard rectifying junction metal devices, i.e., Schottky barrier devices, and rectifying
An amorphous silicon solar cell comprising: an electrically conductive substrate; a body of hydrogenated amorphous silicon including a first region of one conductivity type that electrically contacts said substrate, a second, intrinsic region contiguous to said first region and a third region of a c
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