[특허]Gasless ion plating

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Gasless ion plating 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-015/00 C23C-013/12
출원번호	US-0922719 (1978-07-07)
발명자 / 주소	White Gerald W. (Dallas TX)
출원인 / 주소	Illinois Tool Works Inc. (Chicago IL 02)
인용정보	피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 0

초록 ▼

A gasless ion plating process wherein plating material is melted, vaporized, and then subjected to an ionization environment in a low pressure chamber with a “virtual cathode”consisting of a plasma of ionized atoms of evaporant material created by evaporating in an RF field. It is a gasless ion plating process wherein the system ambient pressure prior to plating material evaporation may be much lower than that required to sustain a glow discharge, however, with vapor pressure of evaporant material added to the environment base pressure being such as to result in a plasma of ionized atoms of the plating material developing as the vaporized material approaches the RF cathode.

대표청구항 ▼

A process for ion plating a substrate supported within a chamber with a plating material and in the absence of any inert gas inputted to said chamber, comprising the steps of: evacuating said chamber, vaporizing plating material in the evacuated chamber, developing a direct current negative bias on said substrate, and applying a radio frequency field from a [first]radio frequency source to the vaporized plating material within said chamber.

이 특허를 인용한 특허 (15)

Hoi Cheong Sun ; Dominic Stephen Rosati ; Eugene Samuel Puliniak ; Bawa Singh ; Nitin Vithalbhai Desai, AC waveforms biasing for bead manipulating chucks.
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Sun Hoi Cheong Steve ; Poliniak Eugene Samuel ; Rosati Dominic Stephen ; Singh Bawa ; Desai Nitin Vithalbhai, AC waveforms biasing for bead manipulating chucks.
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Kidd, Jerry D.; Harrington, Craig D.; Hopkins, Daniel N., Configurable vacuum system and method.
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Kidd, Jerry D.; Harrington, Craig D.; Hopkins, Daniel N., Configurable vacuum system and method.
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Pletcher Timothy Allen ; Datta Pabitra ; Poux Christopher Just ; McCoy Randall Eugene, Method and apparatus for electrostatically depositing a medicament powder upon predefined regions of a substrate.
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Pletcher, Timothy Allen; Datta, Pabitra; Poux, Christopher Just; McCoy, Randall Eugene, Method and apparatus for electrostatically depositing a medicament powder upon predefined regions of a substrate.
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Fotland, Richard; Bowers, John; Jameson, William, Method and apparatus for producing uniform small portions of fine powders and articles thereof.
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Fotland, Richard; Bowers, John; Jameson, William, Method for depositing particles onto a substrate using an alternating electric field.
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Pletcher Timothy Allen ; Datta Pabitra ; Poux Christopher Just ; McCoy Randall Eugene, Method for electrostatically depositing a medicament powder upon predefined regions of a substrate.
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Kidd, Jerry D.; Harrington, Craig D.; Hopkins, Daniel N., Mobile plating system and method.
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Kidd, Jerry D.; Harrington, Craig D.; Hopkins, Daniel N., Mobile plating system and method.
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Kidd,Jerry D.; Harrington,Craig D.; Hopkins,Daniel N., Mobile plating system and method.
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Seon Jeong-Min,KRX, Radio frequency sputtering apparatus and film formation method using same.
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Kidd,Jerry D.; Harrington,Craig D.; Hopkins,Daniel N., System and method for plasma plating.
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특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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