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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0957187 (1978-11-02) |
우선권정보 | JP-0005831 (1978-01-24); JP-0005832 (1978-01-24); JP-0005833 (1978-01-24); JP-0006344 (1978-01-24); JP-0006346 (1978-01-24); JP-0006349 (1978-01-24); JP-0068576 (1978-05-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 15 인용 특허 : 3 |
A method of forming a film or fine line which is very thick in comparison with its width, by repeated printings with heterogeneous or homogeneous printing pastes by using a screen-printing mask. A screen-printing mask having spacing means formed thereon for spacing the screen apart from the work sur
A screen-printing mask to be used for printing on a previously-printed projection comprising a pattern screen and a spacer emulsion layer provided on at least a part of the bottom side of said pattern screen, excluding the circumferential edge portion of the pattern to be printed, said spacer emulsi
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