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Solution and process for the activation of surfaces for metallization 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-003/02
출원번호 US-0011847 (1979-02-13)
우선권정보 DE-2116389 (1971-03-30)
발명자 / 주소
  • Ehrich Hans J. (Berlin DEX) Clauss Wolfgang (Berlin DEX) Mahlkow Hartmut (Berlin DEX)
출원인 / 주소
  • Schering Aktiengesellschaft (Berlin and Bergkamen DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 19  인용 특허 : 0

초록

An activating agent for application to the unactivated surface of an organic polymer to prepare the surface for chemical metallization comprises an aqueous solution of (a) a water soluble metal salt of an inorganic acid, the metal being silver, gold, or a platinum group metal, and (b) an amount of a

대표청구항

An activating composition for preparing unactivated surfaces having a base of acrylonitrile-butadiene-styene-polymers, polypropylene, epoxide or glass-fiber-reinforced epoxide for chemical metallization, comprising an aqueous solution having a pH of between about 2.2 and 7 of a compound selected fro

이 특허를 인용한 특허 (19)

  1. Akai Yoshito (Naga JPX) Konaga Nobuyuki (Osaka JPX) Arisato Yasunori (Katano JPX) Wada Masatoshi (Kishiwada JPX) Moritsu Yukikazu (Nishinomiya JPX), Catalyst composition for forming electroless plating on ceramics.
  2. Yamamoto Hiroshi (Yuki JPX) Shimazaki Takeshi (Hitachi JPX) Kuramochi Kazuichi (Shimodate JPX), Catalyst for electroless plating.
  3. Milum, Kristen M.; Cleary, Donald E.; Rzeznik, Maria A., Catalysts for electroless metallization containing five-membered heterocyclic nitrogen compounds.
  4. Milum, Kristen M.; Cleary, Donald E.; Rzeznik, Maria Anna, Catalysts for electroless metallization containing five-membered heterocyclic nitrogen compounds.
  5. Neely James W. (Dresher PA), Catalytic process and systems.
  6. Yamamoto, Hisamitsu, Direct plating method and solution for palladium conductor layer formation.
  7. Liu, Feng; Rzeznik, Maria, Electroless metallization of dielectrics with alkaline stable pyrazine derivative containing catalysts.
  8. Imori, Toru; Suzuki, Jun; Murakami, Ryu; Aiba, Akihiro; Ito, Junichi, Electroless plating pretreatment agent, electroless plating method using same, and electroless plated object.
  9. Paneccasio, Jr., Vincent; Lin, Xuan; Hurtubise, Richard; Chen, Qingyun, Method and composition for electrodeposition of copper in microelectronics with dipyridyl-based levelers.
  10. Liu, Feng; Rzeznik, Maria Anna, Plating catalyst and method.
  11. Liu, Feng; Rzeznik, Maria Anna, Plating catalyst and method.
  12. Rzeznik, Maria Anna; Liu, Feng, Plating catalyst and method.
  13. Rzeznik, Maria Anna; Liu, Feng, Plating catalyst and method.
  14. Zhou, Wenjia; Kwong, Suk Kwan; Chan, Chit Yiu; Yee, Kwok-Wai, Plating catalyst and method.
  15. Zhou, Wenjia; Kwong, Suk Kwan; Chan, Dennis Chit Yiu; Yee, Dennis Kwok Wai, Plating catalyst and method.
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  18. Sirinyan Kirkor (Bergisch Gladbach DEX) Wolf Gerhard D. (Dormagen DEX) von Gizycki Ulrich (Leverkusen DEX) Merten Rudolf (Leverkusen DEX), Semi-finished products for the manufacture of printed circuit boards.
  19. Nakayoshi, Kazumi; Ishikawa, Hiroki; Shima, Ryoto; Mine, Katsutoshi, Silver-based powder, method of preparation thereof, and curable silicone composition.
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