• 검색어에 아래의 연산자를 사용하시면 더 정확한 검색결과를 얻을 수 있습니다.
  • 검색연산자
검색연산자 기능 검색시 예
() 우선순위가 가장 높은 연산자 예1) (나노 (기계 | machine))
공백 두 개의 검색어(식)을 모두 포함하고 있는 문서 검색 예1) (나노 기계)
예2) 나노 장영실
| 두 개의 검색어(식) 중 하나 이상 포함하고 있는 문서 검색 예1) (줄기세포 | 면역)
예2) 줄기세포 | 장영실
! NOT 이후에 있는 검색어가 포함된 문서는 제외 예1) (황금 !백금)
예2) !image
* 검색어의 *란에 0개 이상의 임의의 문자가 포함된 문서 검색 예) semi*
"" 따옴표 내의 구문과 완전히 일치하는 문서만 검색 예) "Transform and Quantization"

특허 상세정보

Cleanable filter and method of cleaning same

국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) B01D-023/24   
미국특허분류(USC) 210/791 ; 210/DIG ; 15 ; 210/97 ; 210/138
출원번호 US-0065808 (1979-08-13)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
인용정보 피인용 횟수 : 9  인용 특허 : 7

A filter assembly for an extrusion apparatus comprises a stationary filter having a flat, hard surface and slidable means having a plurality of apertures for both accumulating filtered debris and cleaning the filter surface when the debris is removed by sliding a clogged slide aperture out of position while replacing it with a clean aperture.


A filter assembly comprising: (a) a housing for supporting a filter therein; (b) a filter supported within said housing and having a flat surface upon which debris accumulates during filtration, said surface capable of being cleaned in situ without substantial wear by scraping said surface; (c) movable filter cleaner means mounted within said housing, a part thereof extending beyond said housing and having a plurality of spaced apertures for accummulation therein of debris failing to pass through the filter when such aperture is in alignment with said fi...