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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0847349 (1977-10-31) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 40 인용 특허 : 4 |
Plasma reactor apparatus which provides improved uniformity of etching or deposition. A uniform radio frequency (RF) field is established between two closely spaced parallel plates disposed within the reactor. One of the plates functions as a manifold for the reactant gases, mixing the gases and dis
A plasma reactor having increased capacity comprising a plurality of spaced apart plates arranged in alternating sequence and adapted to receive workpieces therebetween, means connected to said plates to establish radio frequency fields between adjacent pairs of said plates, said plates being gas di
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