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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0144300 (1980-04-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 2 |
A dry-developing dry film resist is provided comprising a photopolymerizable layer preferably sandwiched between a support sheet and a cover sheet, the layer comprising polymerizable monomer in excess of the absorptive capacity of the layer, photopolymerization initiator, and binder component of a p
Dry-developing dry film resist for developing an image on a surface by removal of unexposed area from exposed area of said resist without the use of solvent comprising a flexible support sheet and a photopolymerizable layer having a greater adhesion to said support than to said surface, but upon exp
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