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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0113574 (1980-01-21) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 0 |
A method of fabricating a p-n junction device such as solar cells using metal contacts for p regions and n region heat-treated at two different temperatures. A metal with low work functions is heated first to a high temeperature for making ohmic contact to a p-type semiconductor substrate, and then
A method of contacting a semiconductor junction device comprising the steps of forming a pn or an np junction on a doped semiconductor substrate of one conductivity type by creating a thin layer of opposite conductivity type on said substrate, depositing a layer of a metal on said substrate, heating
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