[특허]Method of and apparatus for reactively sputtering a graded surface coating onto a substrate

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-015/00
출원번호	US-0165882 (1980-07-03)
발명자 / 주소	Harding Geoffrey L. (Glebe AUX) McKenzie David R. (Artarmon AUX) Window Brian (Hornsby Heights AUX) Collins Anthony R. (Paddington AUX)
출원인 / 주소	University of Sydney (Sydney AUX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 11 인용 특허 : 5

초록 ▼

A graded surface coating is reactively sputtered onto a tubular substrate by advancing the substrate in an axial direction through a cylindrical sputtering chamber in the presence of a sputter supporting gas. The sputtering chamber includes a cathode liner from which metal is sputtered onto the substrate. A reactive gas is directed into the sputtering chamber from a feed point outside of the chamber, whereby reactive sputtering occurs within the chamber. The reactive gas is induced to flow into the chamber in a direction counter to the direction of advancement of the substrate whereby, as the substrate is progressively advanced through the chamber and the applied coating gradually increases in thickness, the proportion of the reactive gas constituent in the coating increases relative to the metal constituent proportion with increasing thickness of the coating.

대표청구항 ▼

A method of applying a graded surface coating to a substrate and which comprises: advancing the substrate through a sputtering chamber in the presence of a sputter supporting gas, sputtering metal onto the substrate from a cathode within the chamber, directing a reactive gas into the chamber whereby reactive sputtering occurs within the chamber, and inducing the reactive gas to flow into the chamber in a direction counter to the direction of advancement of the substrate whereby, as the substrate is progressively advanced through the chamber, the applied coating gradually increases in thickness and the proportion of the reactive gas constituent in the coating increases relative to the metal constituent proportion in the coating with increasing thickness of the coating. An apparatus for applying a graded surface coating to a substrate and which comprises: a sputtering chamber, means for admitting a sputter supporting gas to the chamber, means for advancing the substrate through the chamber, a cathode located within the chamber and extending lengthwise of the chamber in the direction of advancement of the substrate through the chamber, means for directing a reactive gas into the chamber, the means for directing the reactive gas into the chamber being separate from the means for admitting the sputter supporting gas to the chamber and including a feed point which is spaced from the chamber in the direction of advancement of the substrate through the chamber.

이 특허에 인용된 특허 (5) 인용/피인용 타임라인 분석

Chambers Douglas L. (Nashville TN) Wan Chong T. Wan (Nashville TN), Cathode for sputtering.
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Chapin John (Boulder CO) Condon Charles R. (Boulder CO), Feedback control for vacuum deposition apparatus.
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Harding ; Geoffrey L. ; McKenzie ; David R. ; Window ; Brian, Method and apparatus for reactive sputtering.
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Von Hartel Herbert (Lexington MA), Method and apparatus for supplying background gas in a sputtering chamber.
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Svendor John S. (Allen Park MI) Shintock Eugene (Allen Park MI), Sputter-coating of glass sheets or other substrates.
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Hartsough Larry D. (Berkeley CA), Apparatus and process for sputter deposition of reacted thin films.
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Lee, Young Jong; Choi, Jun Young; Jo, Saeng Hyun; Yoon, Byung-Oh; Kim, Gyeong-Hoon; Jeong, Hong-Gi, Apparatus for manufacturing flat-panel display.
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Iwata Hiroshi,JPX, Black matrix laminated film and reactive sputtering apparatus.
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Weisweiler Werner (Remchingen DEX) Nagel Gerd (Ludwigshafen DEX), Coating fibers with a layer of silicon.
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Konstantin K. Tzatzov CA; Alexander S. Gorodetsky CA, Method and apparatus for magnetron sputtering.
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Andritschky, Martin; Pischow, Kaj A.; Rebouta, Luis Manuel Fernandes, Method for manufacturing thermal absorber for solar thermal collector.
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Wickersham Charles E. (Columbus OH) Foster Ellis L. (Powell OH granted to U.S. Department of Energy under the provisions of 42 U.S.C. 2182), Method of depositing a high-emissivity layer.
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Lawrynowicz, Daniel E.; Wang, Aiguo; Zhang, Zongtao; Krajewski, Jay, Multi-station rotation system for use in spray operations.
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Paderov,Anatoly Nikolaevich; Vexler,Jury Genrikhovich, Protective coating method for pieces made of heat resistant alloys.
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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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