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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0171271 (1980-07-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 50 인용 특허 : 4 |
An improved plasma etching apparatus having a light pipe inserted through the chamber wall for coupling light emitted by different chemical species out of the chamber. The light pipe collects the emission directly or after reflection from the coated surface of a substrate. Stabilization of the inten
In a method for measuring the end point of a plasma etching process comprising mounting a light pipe in the wall of a plasma chamber, which light pipe extends from outside to within the chamber, positioning a substrate having a coating thereon, a portion of which is to be removed by plasma etching,
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