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특허 상세정보

Method and apparatus for determining focus direction and amount

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) G01J-001/20   
미국특허분류(USC) 250/201 ; 250/204 ; 354/25
출원번호 US-0168225 (1980-07-10)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
인용정보 피인용 횟수 : 28  인용 특허 : 2
초록

A system for determining the range to an object utilizing a plurality of radiation responsive detectors arranged in groupings wherein a first grouping of detectors receives radiation from the object in a first pattern and the second grouping of detectors receives radiation from the object in a second pattern. The patterns move with respect to one another as the distance between the object and the system changes. The range is determined from a determination of the relative position of the patterns by computing where the patterns will coincide if the focus...

대표
청구항

Apparatus for use with an auto focus system which includes lens means that produces first and second radiation distribution patterns of a scene to be focussed upon, the patterns being similar and in a first relative position when the lens means is in a proper focus position with respect to the scene, the patterns moving away from the first relative position in a first relative direction as the relative position of the scene and the lens means changes from the proper focus position in one direction and the patterns moving away from the first relative posi...

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 28

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