$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Sample transport system 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65G-051/02
출원번호 US-0288439 (1981-07-30)
발명자 / 주소
  • Gerlach Robert L. (Minnetonka MN) Seibel David D. (Lakeville MN) Miller Mark C. (Chanhassen MN)
출원인 / 주소
  • The Perkin-Elmer Corporation (Norwalk CT 02)
인용정보 피인용 횟수 : 21  인용 특허 : 4

초록

A sample transport system adaptable for use in an MBE instrument includes means for introducing a plurality of substrates into a storage chamber and means for conveying each substrate on a preselected basis to a processing chamber whereby the wafers not being processed are completely protected again

대표청구항

A transport system useful for introducing and conveying a plurality of workpieces within an ultra-high vacuum apparatus, said system comprising: means for retaining a plurality of workpieces in a stacked spaced relationship; means for selectively positioning said retaining means within said apparatu

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. Hijikata Isamu (Tokyo JPX) Uehara Akira (Yokohama JPX) Nakane Hisashi (Kawasaki JPX), Apparatus for the treatment of semiconductor wafers by plasma reaction.
  2. Whelan Paul L. (Dallas TX), Material handling system and method for manufacturing line.
  3. Sussmann ; Erhard, Method for epitactic precipitation of crystalline material from a gaseous phase, particularly for semiconductors.
  4. Rosvold Warren C. (Sunnyvale CA), Vacuum sputtering apparatus.

이 특허를 인용한 특허 (21)

  1. Sato, Kazuo; Yamaguchi, Sumio; Kato, Shigeo; Matsumura, Yasuhide; Mizumoto, Muneo; Okuno, Sumio; Tamura, Naoyuki, Apparatus for molecular beam epitaxy.
  2. Sperinck William A. (Warrington GB2) Ashcroft Keith C. (Chorley GB2), Apparatus for posting materials into and out of enclosures.
  3. Uehara, Akira; Hijikata, Isamu; Nakane, Hisashi; Nakayama, Muneo, Automatic plasma processing device and heat treatment device.
  4. Uehara, Akira; Hijikata, Isamu; Nakane, Hisashi; Nakayama, Muneo, Automatic plasma processing device and heat treatment device for batch treatment of workpieces.
  5. Maney George A. (Palo Alto CA) Faraco W. George (Saratoga CA) Parikh Mihir (San Jose CA), Box door actuated retainer.
  6. Daetwyler Jrg (Benglen CHX), Drying oven including shuttle transporting means.
  7. Hutchinson Martin A. (Santa Clara CA), Gate valve for wafer processing system.
  8. Bouchaib Pierre (L\Etang la Ville FRX), Installation for treatment of materials for the production of semi-conductors.
  9. Bonora Anthony C. (Menlo Park CA) O\Sullivan Andrew W. (Gilroy CA), Long arm manipulator for standard mechanical interface apparatus.
  10. Tamura Naoyuki (Kudamatsu JPX) Kamohara Hideaki (Ibaraki JPX) Kanai Norio (Kudamatsu JPX) Ichihashi Kazuaki (Kudamatsu JPX), Molecular beam epitaxy apparatus.
  11. , Particle-free dockable interface for integrated circuit processing.
  12. Outlaw Ronald A. (Newport News VA) Baugh Bill T. (Poquoson VA), Precision manipulator heating and cooling apparatus for use in UHV systems with sample transfer capability.
  13. Miller Mark C. (Chanhassen MN), Sample vessel.
  14. Maney George A. (Palo Alto CA) O\Sullivan Andrew W. (Gilroy CA) Faraco W. George (Saratoga CA), Sealed standard interface apparatus.
  15. Harada Hiroshi (Tokyo JPX) Iwasawa Yoshiyuki (Tokyo JPX) Ishida Tsutomu (Tokyo JPX) Kobayashi Shintaro (Tokyo JPX), Semiconductor processing system.
  16. Maydan Dan (Los Altos Hills CA) Somekh Sasson R. (Redwood City CA) Ryan-Harris Charles (La Honda CA) Seilheimer Richard A. (Pleasanton CA) Cheng David (San Jose CA) Abolnikov Edward M. (San Francisco, Semiconductor processing system with robotic autoloader and load lock.
  17. Bonora Anthony C. (Menlo Park CA), Short arm manipulator for standard mechanical interface apparatus.
  18. Warenback Douglas H. (San Rafael CA) Hoog Josef T. (Novato CA), Spatula for wafer transport.
  19. Ukai Katsumi (Fuchu JPX) Tsukada Tsutomu (Fuchu JPX) Ikeda Kouji (Fuchu JPX) Adachi Toshio (Fuchu JPX), Vacuum processing apparatus.
  20. Dimock Jack A. (Santa Barbara CA) Woestenburg Dirk P. (Summerland CA), Wafer processing machine with evacuated wafer transporting and storage system.
  21. Hertel Richard J. (Bradford MA), Wafer transfer system.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로